[发明专利]光酸发生剂及含有该光酸发生剂的抗蚀剂组合物

摘要

本发明涉及抑制酸扩散而减少线边缘粗糙度，同时增加酸收率而显著提高抗蚀剂的光敏度，尤其是在利用远红外(EUV)光刻的图案形成时，能够显著提高抗蚀剂光敏度的光酸发生剂及含有该光酸发生剂的抗蚀剂组合物，所述光酸发生剂由下述化学式1表示：[化学式1]所述化学式1中，各取代基如在说明书中所定义。

主权项

1.下述化学式1的光酸发生剂：[化学式1]在上述化学式1中，所述V₁及V₂各自独立地为卤素基；所述W₁及W₂各自独立地为氢原子或卤素基；所述X选自由亚烷基、亚烯基、NR'、S、O、CO及它们的组合组成的群组，所述R'为碳原子数为1-4的烷基；所述R₁及R₂各自独立地为氢原子中的1-5个由选自氟烷基、卤素基、硝基、氰基、甲酰基及烷基羰基组成的组中的1种以上的吸电子体取代或未取代的碳原子数为6-18的芳基；所述R₃为氢或碳原子数为1-4的烷基；所述a为1-4的整数，b为0-5的整数，c为1-3的整数，d为1-3的整数；及所述A+为有机抗衡离子。