[发明专利]进气装置及反应腔室无效
| 申请号： | 201310335533.0 | 申请日： | 2013-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN103397309A | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 谭华强;乔徽;林翔;苏育家 | 申请（专利权）人： | 光垒光电科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 200050 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种进气装置及反应腔室。所述进气装置包括堆叠设置的主体和可移除层，所述主体至少包括第一气体腔室，所述主体和该主体下方的可移除层之间的区域构成第二气体腔室；所述可移除层与所述主体之间通过定位配合装置可拆卸连接，所述定位配合装置用于确定所述可移除层与主体之间的相对位置关系，并且将定位配合装置的固定件与所述主体锁定；所述第一气体腔室和第二气体腔室皆具有气体通道，以向所述可移除层下方的反应区域提供反应气体。那么当经过一段时间后，便可以将所述可移除层拆卸以进行清洗或者替换新的可移除层，从而能够有效的降低进气装置表面的颗粒脱落的几率，减少对产品的污染，提高成膜质量。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 反应 | ||
【主权项】：
一种进气装置，用于向反应区域提供反应气体，其特征在于，所述进气装置包括堆叠设置的主体和可移除层，所述主体至少包括第一气体腔室，所述主体和该主体下方的可移除层之间的区域构成第二气体腔室；所述可移除层与所述主体之间通过定位配合装置可拆卸连接，所述定位配合装置用于确定所述可移除层与主体之间的相对位置关系，并且将定位配合装置的固定件与所述主体锁定；所述第一气体腔室和第二气体腔室皆具有气体通道，以向所述可移除层下方的反应区域提供反应气体。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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