[发明专利]进气装置及反应腔室无效
申请号: | 201310335533.0 | 申请日: | 2013-08-02 |
公开(公告)号: | CN103397309A | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
发明(设计)人: | 谭华强;乔徽;林翔;苏育家 | 申请(专利权)人: | 光垒光电科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 200050 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 反应 | ||
1.一种进气装置,用于向反应区域提供反应气体,其特征在于,所述进气装置包括堆叠设置的主体和可移除层,所述主体至少包括第一气体腔室,所述主体和该主体下方的可移除层之间的区域构成第二气体腔室;所述可移除层与所述主体之间通过定位配合装置可拆卸连接,所述定位配合装置用于确定所述可移除层与主体之间的相对位置关系,并且将定位配合装置的固定件与所述主体锁定;所述第一气体腔室和第二气体腔室皆具有气体通道,以向所述可移除层下方的反应区域提供反应气体。
2.如权利要求1所述的进气装置,其特征在于,所述定位配合装置设置在所述可移除层的边缘。
3.如权利要求1所述的进气装置,其特征在于,所述定位配合装置包括:定位件、配合件和所述固定件,所述定位件设置于所述可移除层下方,所述配合件设置于可移除层与定位件之间,所述定位件和配合件用于确定所述可移除层与主体之间的相对位置关系,然后通过将所述固定件和主体锁定,实现可移除层与主体之间的固定连接。
4.如权利要求3所述的进气装置,其特征在于,所述定位件与所述可移除层相对的一侧各设置有凹槽,所述配合件的两端分别位于所述定位件与可移除层的凹槽中。
5.如权利要求4所述的进气装置,其特征在于,所述定位件和配合件为条状,环绕可移除层的边缘一周。
6.如权利要求4所述的进气装置,其特征在于,所述定位件和配合件为块状,沿可移除层的边缘一周均匀排布。
7.如权利要求3所述的进气装置,其特征在于,所述固定件为螺栓,所述可移除层设置有螺丝孔,所述螺丝孔在沿所述可移除层径向的尺寸大于所述螺栓的尺寸。
8.如权利要求3所述的进气装置,其特征在于,所述固定件为定位销,所述可移除层设置有通孔,所述通孔在沿所述可移除层径向的尺寸大于所述定位销的尺寸。
9.如权利要求1所述的进气装置,其特征在于,所述可移除层边缘周向设置有多个用于对准中心的部件,以使得可移除层在受热膨胀后所述可移除层的中心与所述主体的中心对准。
10.如权利要求1所述的进气装置,其特征在于,所述主体与所述可移除层之间设置有隔热件,以隔离所述主体与所述可移除层之间的热传导。
11.如权利要求10所述的进气装置,其特征在于,所述隔热件的材料为陶瓷。
12.如权利要求10所述的进气装置,其特征在于,所述主体的边缘设置有凹槽,所述隔热件设置于所述主体的边缘的凹槽中。
13.如权利要求1所述的进气装置,其特征在于,在所述第二气体腔室边缘外侧且所述可移除层与主体之间设置有匀气环和匀气件,所述匀气件嵌套于所述匀气环内;所述匀气件位于所述第二气体腔室和匀气环之间,沿匀气环的边缘一周均匀分布有多个进气孔,沿匀气件一周均匀设置多个气体通道,来自气体源的第二气体通过进气孔进入匀气环和匀气件之间的区域进行缓冲,之后通过所述气体通道进入所述第二气体腔室。
14.如权利要求13所述的进气装置,其特征在于,所述第一气体腔室通入第一气体,所述第二气体腔室通入第二气体,所述第一气体为III族气体,所述第二气体为V族气体。
15.如权利要求14所述的进气装置,其特征在于,所述匀气环背离所述匀气件的一侧、所述主体及所述可移除层之间围绕成吹扫气体腔室,围绕成所述吹扫气体腔室的所述可移除层设置有吹扫气体通道,所述吹扫气体腔室与外部吹扫气体源相连通,来自吹扫气体源的吹扫气体经过吹扫气体腔室和吹扫气体通道向下方流出。
16.如权利要求1所述的进气装置,其特征在于,所述第一气体腔室与第二气体腔室之间层叠设置有隔离腔室和冷却腔室,所述隔离腔室用于提供隔离气体,将所述III族气体和V族气体进行隔离,防止预反应发生;所述冷却腔室用于将所述第一气体腔室与第二气体腔室进行热隔离。
17.如权利要求16所述的进气装置,其特征在于,所述第一气体腔室的气体通道贯穿所述隔离腔室和冷却腔室及第二气体腔室到达所述可移除层的下表面;所述第二气体腔室的气体通道为贯穿所述可移除层的通孔。
18.一种反应腔室,包括:腔体、用于装载衬底的托盘和进气装置,所述托盘设置于所述腔体的底部,所述进气装置设置在所述腔体的顶部并与所述托盘相对设置,所述托盘与所述进气装置之间限定气体反应区域,所述进气装置用于向所述反应区域输出反应气体;其特征在于,所述进气装置为如权利要求1-17中任意一项所述的进气装置。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
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