[发明专利]宽探测波段的InGaAs/GaAs红外探测器有效
申请号: | 201310310884.6 | 申请日: | 2013-07-23 |
公开(公告)号: | CN103383977A | 公开(公告)日: | 2013-11-06 |
发明(设计)人: | 张志伟;缪国庆;宋航;蒋红;黎大兵;孙晓娟;陈一仁;李志明 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | H01L31/105 | 分类号: | H01L31/105;H01L31/0304;H01L31/0352 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人: | 王丹阳 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种宽探测波段的InGaAs/GaAs红外探测器,属于光电子材料与器件领域,解决了现有InGaAs红外探测器由于晶格失配产生缺陷,导致探测器性能明显下降的问题。本发明的宽探测波段的InGaAs/GaAs红外探测器,包括依次生长在GaAs衬底上的缓冲层、吸收层和盖层,所述缓冲层为掺Si的InAsP,厚度为0.5-1.5μm,所述吸收层为低掺杂Si的In0.82Ga0.18As,厚度为2.5-3.5μm,所述盖层为掺Be的InAlAs,厚度为0.5-1.5μm。本发明的红外探测器具有高量子效率、高探测率,能够满足正面进光、背面进光及倒扣封装结构。 | ||
搜索关键词: | 探测 波段 ingaas gaas 红外探测器 | ||
【主权项】:
宽探测波段的InGaAs/GaAs红外探测器,包括依次生长在GaAs衬底(1)上的缓冲层(2)、吸收层(3)和盖层(4),其特征在于,所述缓冲层(2)为掺Si的InAsP,厚度为0.5‑1.5μm,所述吸收层(3)为低掺杂Si的In0.82Ga0.18As,厚度为2.5‑3.5μm,所述盖层(4)为掺Be的InAlAs,厚度为0.5‑1.5μm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310310884.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:变压器自动测试设备及方法
- 下一篇:具有多级亮度调节功能的LED灯
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的