[发明专利]一种A1掺杂ZnO透明导电微/纳米线阵列膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310289805.8 申请日: 2013-07-11
公开(公告)号: CN103413842A 公开(公告)日: 2013-11-27
发明(设计)人: 陈建林;陈荐;郭辰熹;胡琳琳;唐植懿 申请(专利权)人: 长沙理工大学
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/0216;H01L31/0232;H01L31/02;H01L31/18;H01L21/208;B82Y40/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 410114 湖南省*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明所提供的一种Al掺杂ZnO透明导电微/纳米线阵列膜及其制备方法,该阵列膜具有优良的导电性和可见光透明性,同时具有微/纳米线阵列膜的绒面陷光效应。
搜索关键词: 一种 a1 掺杂 zno 透明 导电 纳米 阵列 及其 制备 方法
【主权项】:
一种Al掺杂ZnO透明导电微/纳米线阵列膜的生长方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:(1)准备材料:透明导电玻璃、六水合硝酸锌、九水合硝酸铝、去离子水;(2)配制溶液:按比例称量六水合硝酸锌和九水合硝酸铝为溶质,以去离子水为溶剂,配制硝酸锌与硝酸铝混合溶液;(3)阵列膜的制备:以硝酸锌和硝酸铝混合水溶液为电沉积溶液,白金钛网或铂为阳极(惰性电极),透明导电膜玻璃为阴极,接通电源,在透明导电膜玻璃上电沉积法生长一层Al掺杂ZnO透明导电微/纳米线阵列膜;(4)热处理:在空气气氛下,约530℃,保温1h,随炉降温;真空条件下或N2+H2气氛下的热处理,约450℃,保温0.5~1h,随炉降温。
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