[发明专利]一种阵列基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201310011529.9 申请日: 2013-01-11
公开(公告)号: CN103928453A 公开(公告)日: 2014-07-16
发明(设计)人: 郭建 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L21/77;G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 张颖玲;王黎延
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种阵列基板,包括周边布线区,所述周边布线区包括防静电释放区域,所述防静电释放区域包括基板,形成在所述基板上的栅线、栅绝缘层、数据线、保护层和透明电极,其中,所述栅绝缘层上形成有第一过孔,所述保护层上与所述第一过孔对应的位置上形成有第二过孔,所述栅线、数据线和透明电极通过所述第一过孔和第二过孔连接。本发明还公开了一种阵列基板的制造方法,采用该方法制造的上述阵列基板结构能有效避免底层金属的过刻现象。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制造 方法
【主权项】:
一种阵列基板,包括周边布线区,所述周边布线区包括防静电释放区域,所述防静电释放区域包括基板,形成在所述基板上的栅线、栅绝缘层、数据线、保护层和透明电极,其特征在于,所述栅绝缘层上形成有第一过孔,所述保护层上与所述第一过孔对应的位置上形成有第二过孔,所述栅线、数据线和透明电极通过所述第一过孔和第二过孔连接。
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