[发明专利]等离子体处理装置

摘要

本发明能够简便且可靠地防止对开关方式的高频电源进行电力调制时在高频供电线上发生RF电力拖尾现象。该电容耦合型的等离子体处理装置，在真空腔室(10)内使基座(下部电极)(16)与兼作喷头的上部电极(46)相对配置。基座(16)分别经由匹配器(40、42)与第1和第2高频电源(36、38)电连接。第1高频电源(36)由线性放大器方式的高频电源构成，输出等离子体生成用的第1高频(RF1)。第2高频电源(38)由开关方式的高频电源构成，输出离子引入用的第2高频(RF2)。第2高频电源(38)侧的高频供电线(43)与残留高频除去部(74)连接。

主权项

一种等离子体处理装置，其在以能够取出和放入被处理基板的方式收纳该被处理基板的能够真空排气的处理容器内生成处理气体的等离子体，利用所述等离子体对所述基板实施期所期望的处理，所述等离子体处理装置的特征在于，包括：开关方式的高频电源，其具有直流电源和开关元件，由开关脉冲使所述开关元件以高频频带的频率导通/断开，由此将所述直流电源的直流输出转换为高频输出；高频供电线，其用于将由所述高频电源输出的所述高频供给到所述等离子体；匹配器，其用于在所述高频供电线上使所述高频电源侧的阻抗与该匹配器的负载侧的阻抗匹配；高频电力调制部，其控制所述高频电源，使所述高频的电力成为导通状态的导通期间和成为断开状态的断开期间以一定的脉冲频率交替反复；和残留高频除去部，其用于将在所述脉冲频率的各周期中的所述断开期间中残留在所述高频供电线上的高频除去。