[发明专利]增层基板及其制造方法、以及半导体集成电路封装件有效

专利信息
申请号: 201280025835.1 申请日: 2012-10-29
公开(公告)号: CN103597916A 公开(公告)日: 2014-02-19
发明(设计)人: 中谷诚一;川北晃司;泽田享;山下嘉久 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46;H01L23/12;H01L23/14
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 樊建中
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种增层基板的制造方法,其用于制造一种在电路基板上层叠有绝缘层与布线图案层的增层基板,包括:(i)工序,在具有布线图案的电路基板的两面或单面上涂敷光反应性的金属氧化物前驱体原料,对该光反应性的金属氧化物前驱体原料加以干燥处理而形成绝缘膜;(ii)工序,对绝缘膜加以曝光以及显影处理,由此,在绝缘膜上形成过孔用开口部;(iii)工序,对绝缘膜进行热处理,使绝缘膜成为金属氧化物膜,由此,获得由无机金属氧化物膜形成的增层绝缘层;以及(iv)工序,对增层绝缘层实施镀敷处理,由此形成过孔,并且形成金属层,对该金属层实施蚀刻处理形成增层布线图案,(v)反复进行至少一次以上的上述工序(i)~(iv)。
搜索关键词: 增层基板 及其 制造 方法 以及 半导体 集成电路 封装
【主权项】:
一种增层基板的制造方法,上述增层基板是在电路基板上层叠有绝缘层和布线图案层的增层基板,上述制造方法包括:工序i,对具有布线图案的电路基板的两面或单面涂敷光反应性的金属氧化物前驱体原料,对该光反应性的金属氧化物前驱体原料加以干燥处理而形成绝缘膜;工序ii,对上述绝缘膜加以曝光以及显影处理,由此,在该绝缘膜上形成过孔用开口部;工序iii,对上述绝缘膜加以热处理,使该绝缘膜成为金属氧化物膜,由此,获得由该金属氧化物膜形成的增层绝缘层;以及工序iv,对上述增层绝缘层实施镀敷处理,由此在上述开口部形成过孔,并且,在上述增层绝缘层上形成金属层,对该金属层实施蚀刻处理而形成增层布线图案,在工序v中,反复进行至少一次以上的上述工序i~iv。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201280025835.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top