[发明专利]具有测量单元的蒸发系统有效
申请号: | 201280018968.6 | 申请日: | 2012-04-03 |
公开(公告)号: | CN103476964A | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
发明(设计)人: | U·霍夫曼 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C14/54 | 分类号: | C23C14/54;C23C14/24 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陆嘉 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明描述了一种蒸发器,所述蒸发器用于将材料蒸发到基板上。所述蒸发器包括导向装置,所述导向装置用于引导材料朝向至少一个开式喷嘴。所述导向装置包括用于材料的一部分的测量出口。所述蒸发器进一步包括第一测量系统及第二光学测量系统,所述第一测量系统配置用于产生与蒸发器沉积速率有关的第一信号并且具有第一检测器,所述第一检测器定位为由材料涂敷,所述第二光学测量系统用于产生与蒸发器沉积速率有关的第二信号,并且其中第二信号基于测量出口处的所述材料的所述部分。 | ||
搜索关键词: | 具有 测量 单元 蒸发 系统 | ||
【主权项】:
一种用于将材料蒸发到基板上的蒸发器,包含:导向装置,所述导向装置用于引导所述材料朝向至少一个开式喷嘴,所述导向装置包含:测量出口,所述测量出口用于一部分所述材料,所述测量出口的蒸发方向显著地不同于所述至少一个开式喷嘴的蒸发方向;所述蒸发器进一步包含:第一测量系统,所述第一测量系统配置用于产生与所述蒸发器的沉积速率有关的第一信号并且具有第一检测器,所述第一检测器定位为由材料涂敷;以及第二光学测量系统,所述第二光学测量系统用于产生与所述蒸发器的沉积速率有关的第二信号,并且其中所述第二信号基于所述测量出口处的所述材料的所述部分。
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