[发明专利]具有连续旋转的原子层沉积旋转料架及其使用方法

摘要

本发明提供包括旋转轮的原子层沉积设备及方法，所述旋转轮具有多个基板载体，所述原子层沉积设备及方法用于连续处理基板。处理腔室在前端上可具有载入站，所述载入站被配置成具有一个或更多个机械手臂以从基板载体载入及卸载基板，无需停止旋转轮。

主权项

一种沉积系统，所述沉积系统包括：处理腔室；可旋转的轮，所述轮设置于所述处理腔室内，所述轮具有多个圆周分布的基板载体；以及至少一个气体分配板，所述至少一个气体分配板位于所述处理腔室内，所述气体分配板具有多个狭长气体口，所述多个狭长气体口引导气流朝向所述基板载体；以及载入站，所述载入站位于所述处理腔室的前端上，所述载入站具有第一机械手臂及第二机械手臂，所述第一机械手臂将基板载入至基板载体上，所述第二机械手臂从基板载体卸载经处理的基板。