[实用新型]IGBT半导体器件有效
| 申请号: | 201220700511.0 | 申请日: | 2012-12-17 |
| 公开(公告)号: | CN203103307U | 公开(公告)日: | 2013-07-31 |
| 发明(设计)人: | 王锐 | 申请(专利权)人: | 深圳市可易亚半导体科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/06 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 518000 广东省深圳市福田区金田路*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本实用新型公开了一种IGBT半导体器件,所述IGBT半导体器件的内部结构层包括:依次连接的P+注入区、N+缓冲区、N-漂移区,在所述N-漂移区上成型有P-body区,在所述P-body区上部的两端均间隔形成有N+深阱。本实用新型是一种低正向压降、较大的正向或反向安全工作区的IGBT半导体器件。 | ||
| 搜索关键词: | igbt 半导体器件 | ||
【主权项】:
一种IGBT半导体器件,其特征在于:所述IGBT半导体器件的内部结构层包括:依次连接的P+注入区、N+缓冲区、N‑漂移区,在所述N‑漂移区上成型有P‑body区,在所述P‑body区上部的两端均间隔形成有N+深阱。
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