[实用新型]薄膜形成装置有效
| 申请号： | 201220694147.1 | 申请日： | 2012-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN202968674U | 公开（公告）日： | 2013-06-05 |
| 发明（设计）人： | 林达也;姜友松;盐野一郎;长江亦周 | 申请（专利权）人： | 株式会社新柯隆 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 党晓林;王小东 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种薄膜形成装置，在调整形成于基板的薄膜的膜厚的同时提高了蒸镀材料的利用效率。真空蒸镀装置（100）具备：真空槽（1）；基板保持器（2）和基板保持器保持部件（3），它们收纳于所述真空槽（1）内；以及蒸镀源，其在真空槽（1）中配置于基板保持器（2）的下方位置，作为蒸镀源，具备蒸镀彼此相同的蒸镀材料的第一蒸镀源（4）和第二蒸镀源（5），第一蒸镀源（4）和第二蒸镀源（5）各自的配置位置是在竖直方向和水平方向上相互不同的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 形成 装置 | ||
【主权项】：
一种薄膜形成装置，所述薄膜形成装置具备：真空槽；基板保持部件，所述基板保持部件收纳于所述真空槽内；以及蒸镀源，所述蒸镀源在所述真空槽中配置于所述基板保持部件的下方位置，其特征在于，作为所述蒸镀源，该薄膜形成装置具备蒸镀彼此相同的材料的第一蒸镀源和第二蒸镀源，所述第一蒸镀源和所述第二蒸镀源各自的配置位置是在竖直方向和水平方向上相互不同的位置。
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