[实用新型]薄膜形成装置有效
| 申请号： | 201220694147.1 | 申请日： | 2012-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN202968674U | 公开（公告）日： | 2013-06-05 |
| 发明（设计）人： | 林达也;姜友松;盐野一郎;长江亦周 | 申请（专利权）人： | 株式会社新柯隆 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 党晓林;王小东 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 薄膜 形成 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种薄膜形成装置，所述薄膜形成装置具备：真空槽；基板保持部件，所述基板保持部件收纳于所述真空槽内；以及蒸镀源，所述蒸镀源在所述真空槽中配置于所述基板保持部件的下方位置，其特征在于，
作为所述蒸镀源，该薄膜形成装置具备蒸镀彼此相同的材料的第一蒸镀源和第二蒸镀源，
所述第一蒸镀源和所述第二蒸镀源各自的配置位置是在竖直方向和水平方向上相互不同的位置。
2.根据权利要求1所述的薄膜形成装置，其特征在于，
所述基板保持部件是能够绕沿着竖直方向的旋转中心旋转的旋转体，
所述第一蒸镀源配置成，在所述旋转体的径向上比所述第二蒸镀源靠近所述旋转中心、且在竖直方向上比所述第二蒸镀源靠下方。
3.根据权利要求1所述的薄膜形成装置，其特征在于，
所述基板保持部件是能够水平移动的移动体，
在所述移动体的移动方向上比所述第一蒸镀源靠下游侧、且在水平方向中与所述移动方向交叉的交叉方向上夹着所述第一蒸镀源的位置处配置有多个所述第二蒸镀源，
所述第一蒸镀源配置成在竖直方向上比所述第二蒸镀源靠下方。
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