[实用新型]遮挡盘及离子注入装置有效
| 申请号： | 201220521024.8 | 申请日： | 2012-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN202796849U | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 吴兵 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提出一种遮挡盘及离子注入装置，带有多个开孔的遮挡盘能够对离子束等进行遮挡，从而形成与开孔形状一致的离子束；使具有形状的离子束注入晶圆内，比较晶圆上离子注入的形状和遮挡盘上开孔的形状，从而得出离子束注入时的角度，进而控制和调节离子束注入的角度。 | ||
| 搜索关键词： | 遮挡 离子 注入 装置 | ||
【主权项】：
一种遮挡盘，其特征在于，包括多个径向垂直于所述遮挡盘盘面的开孔。
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