[实用新型]遮挡盘及离子注入装置

权利要求书

1.一种遮挡盘，其特征在于，包括多个径向垂直于所述遮挡盘盘面的开孔。

2.如权利要求1所述的遮挡盘，其特征在于，所述开孔的数目大于等于3个。

3.如权利要求1或2所述的遮挡盘，其特征在于，所述开孔的形状相同或不同。

4.如权利要求3所述的遮挡盘，其特征在于，所述开孔的形状为圆形、三角形、扇形或多边形。

5.如权利要求3所述的遮挡盘，其特征在于，所述开孔相同形状的尺寸相同或者不同。

6.如权利要求3所述的遮挡盘，其特征在于，所述多边形的边数大于等于4。

7.如权利要求1所述的遮挡盘，其特征在于，所述开孔的侧壁面与所述遮挡盘上表面或下表面呈30度~45度的夹角。

8.如权利要求1所述的遮挡盘，其特征在于，所述遮挡盘的材质为碳纤维。

9.如权利要求1所述的遮挡盘，其特征在于，所述遮挡盘为圆形，其直径范围为310mm~350mm。

10.如权利要求1所述的遮挡盘，其特征在于，所述遮挡盘的厚度为1.5mm~3mm。

11.一种离子注入装置，其特征在于，包括如权利要求1至10中任一项所述的遮挡盘。

12.如权利要求11所述的离子注入装置，其特征在于，还包括：

反应腔室；

用于提供离子束的离子源，固定在所述反应腔室的内侧壁；

基座，底部固定在所述反应腔室的另一内侧壁上；

电子卡盘，其底端与所述基座顶部固定，其顶端与所述离子源相对；

其中，所述遮挡盘与所述电子卡盘边缘相固定并保持一定的距离。

13.如权利要求12所述的离子注入装置，其特征在于，所述基座底部通过一体成型方式与所述反应腔室的内侧壁相固定。

14.如权利要求12所述的离子注入装置，其特征在于，所述电子卡盘底端通过卡槽或螺丝与所述基座顶部相固定。

15.如权利要求12所述的离子注入装置，其特征在于，还包括一固定部件，所述固定部件一端固定在所述电子卡盘的边缘，另一端固定连接所述遮挡盘的边缘。

16.如权利要求14所述的离子注入装置，其特征在于，所述固定部件通过焊接或螺丝等方式与所述电子卡盘的边缘相固定。

17.如权利要求15所述的离子注入装置，其特征在于，所述遮挡盘通过一卡槽与所述固定部件的另一端相固定。

18.如权利要求11所述的遮挡盘，其特征在于，所述遮挡盘的开孔正对电子卡盘一侧的孔径尺寸小于正对离子束一侧的孔径尺寸。