[发明专利]一种用于大型板式PECVD设备的表面电场增强装置

摘要

本发明属于PECVD设备表面电场增强技术领域，具体地说是一种用于大型板式PECVD设备的表面电场增强装置。包括工艺腔和设置于工艺腔内的电极基板、碳板、传输滚轮及绝缘销，其中电极基板通过绝缘销固接于工艺腔的内壁上，所述碳板设置于电极基板的下方、并与电极基板之间留有间隙，所述电极基板接入电压。本发明可吸引N3-或Si4+离子，增大了输送到生长表面的离子流量，能提高沉积速率。

主权项

一种用于大型板式PECVD设备的表面电场增强装置，其特征在于：包括工艺腔（7）和设置于工艺腔（7）内的电极基板（3）、碳板（2）、传输滚轮（1）及绝缘销（8），其中电极基板（3）通过绝缘销（8）固接于工艺腔（7）的内壁上，所述碳板（2）设置于传输滚轮（1）上、并位于电极基板（3）的下方，碳板（2）与电极基板（3）之间留有间隙，所述电极基板（3）接入电压，吸引N3‑或Si4+离子。