[发明专利]反应腔室

摘要

本发明公开了一种反应腔室。所述反应腔室包括腔体、设置在所述腔体顶部的喷淋头和设置在所述腔体底部且与所述喷淋头相对设置的托盘，所述托盘下方具有加热器。所述反应腔室还包括保温结构，所述保温结构环绕在所述托盘周围。在托盘边缘设置保温结构，能够减少托盘边缘部分的热量散失，使得托盘边缘部分与中间部分的温度基本保持一致，有利于均匀的加热位于托盘上的衬底，在化学气相沉积过程中，能够获得更好的沉积效果，避免了不同区域由于温度不同而引起的沉积率不同的问题，从而使得沉积均匀，获得高质量的膜层。

主权项

一种反应腔室，包括腔体、设置在所述腔体顶部的喷淋头和设置在所述腔体底部且与所述喷淋头相对设置的托盘，所述托盘下方具有加热器；其特征在于，所述反应腔室还包括保温结构，所述保温结构环绕在所述托盘周围。