[发明专利]反应腔室无效
| 申请号： | 201210592831.3 | 申请日： | 2012-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN103074599A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 梁秉文 | 申请（专利权）人： | 光达光电设备科技（嘉兴）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 314300 浙江省嘉兴市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反应 | ||
1.一种反应腔室，包括腔体、设置在所述腔体顶部的喷淋头和设置在所述腔体底部且与所述喷淋头相对设置的托盘，所述托盘下方具有加热器；其特征在于，所述反应腔室还包括保温结构，所述保温结构环绕在所述托盘周围。
2.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述保温结构为围绕所述托盘的环型结构。
3.如权利要求2所述的反应腔室，其特征在于，所述保温结构的材料的热传导系数小于所述托盘的材料的热传导系数。
4.如权利要求2所述的反应腔室，其特征在于，所述保温结构朝向托盘一侧的表面的反射率大于所述托盘朝向所述保温结构一侧的表面的反射率。
5.如权利要求2所述的反应腔室，其特征在于，所述保温结构的材料为石英或陶瓷。
6.如权利要求2所述的反应腔室，其特征在于，所述保温结构至少部分围绕所述加热器的外围。
7.如权利要求6所述的反应腔室，其特征在于，所述保温结构的高度大于所述托盘的厚度。
8.如权利要求2所述的反应腔室，其特征在于，所述喷淋头与所述托盘之间的气体通过所述保温结构与所述腔体侧壁之间形成的排气通道排出。
9.如权利要求8所述的反应腔室，其特征在于，所述保温结构面向所述喷淋头的表面与所述托盘面向所述喷淋头的表面位于同一平面。
10.如权利要求9所述的反应腔室，其特征在于，所述托盘能够相对所述喷淋头旋转，所述保温结构与所述托盘之间的间隙为0.5~2mm。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
