[发明专利]单晶式多晶体纳米金刚石复合薄膜及制备方法有效
申请号: | 201210591153.9 | 申请日: | 2012-12-31 |
公开(公告)号: | CN103060771A | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 刘学杰;张素慧;任元;魏怀;陆峰 | 申请(专利权)人: | 内蒙古科技大学 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/44;C30B29/04;C30B28/14;B82Y40/00;B82Y30/00 |
代理公司: | 包头市专利事务所 15101 | 代理人: | 庄英菊 |
地址: | 014010 内蒙*** | 国省代码: | 内蒙古;15 |
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摘要: | 本发明涉及单晶式多晶体纳米金刚石复合薄膜及制备方法,属于有序纳米金刚石复合结构表面材料工程领域。本发明薄膜是由晶粒相和界面相构成,界面相将晶粒相分隔为纳米尺度晶粒,晶粒之间形成规则的界面相。此纳米金刚石复合结构属于单晶式多晶体复合结构。通过改变界面相的分布,改善复合薄膜的力学性能、电学性能、光学性能、磁学性能和热学性能。此单晶式多晶体纳米金刚石复合薄膜的制备包括在基底表面植入有序分布的晶种,利用微波等离子气相沉积形成金刚石晶核,共同沉积晶粒相和界面相粒子和生长纳米金刚石复合薄膜,以及进行热处理消除薄膜应力和均化晶粒尺寸。 | ||
搜索关键词: | 单晶式 多晶体 纳米 金刚石 复合 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
单晶式多晶体纳米金刚石复合薄膜,其特征在于它是由晶粒相和界面相构成,界面相将晶粒相分隔为纳米尺度晶粒。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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