[发明专利]一种电子封装外壳电镀镍钴合金方法有效

专利信息
申请号: 201210486279.X 申请日: 2012-11-26
公开(公告)号: CN102943290A 公开(公告)日: 2013-02-27
发明(设计)人: 刘圣迁 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十三研究所
主分类号: C25D3/56 分类号: C25D3/56
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所 13120 代理人: 李荣文
地址: 050051 河北省*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明公开了一种电子封装外壳电镀镍钴合金的方法,包括以下步骤:(1)进行镀前检查和镀前准备;(2)镀前处理:对待镀表面进行清洗;(3)预镀镍;(4)镀镍;(5)镀镍钴:阳极为电解镍板,电镀液的组成为:NiSO4·6H2O180~220g/L,H3BO335~45g/L,NaCl10~18g/L,CoSO4·7H2O3~8g/L;电镀条件为:pH为5~6,电流密度为1~2A/dm2,温度为50~60℃;(6)预镀金;(7)镀金;(8)后处理。本发明的电镀液和电镀条件进行样品镀覆,镍钴镀层钴含量可稳定控制于15%~30%之间,能够满足镀层钴含量≥10.5%的理论分析值要求。
搜索关键词: 一种 电子 封装 外壳 电镀 合金 方法
【主权项】:
一种电子封装外壳电镀镍钴合金的方法,其特征在于包括以下步骤:(1)进行镀前检查和镀前准备;(2)镀前处理:对待镀表面进行清洗;(3)预镀镍;(4)镀镍;(5)镀镍钴:阳极为电解镍板,电镀液的组成为:NiSO4·6H2O       180~220 g/LH3BO3            35~45g/LNaCl             10~18g/LCoSO4·7H2O      3~8g/L;电镀条件为:pH为5~6  电流密度为1~2A/dm2   温度为50~60℃;(6)预镀金;(7)镀金;(8)后处理。
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