[发明专利]金属有机化学气相沉积装置有效
申请号: | 201210459091.6 | 申请日: | 2012-11-14 |
公开(公告)号: | CN103805967A | 公开(公告)日: | 2014-05-21 |
发明(设计)人: | 奚明;户高良二;马悦;萨尔瓦多;黄占超;林芳;刘强;肖蕴章 | 申请(专利权)人: | 理想能源设备(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人: | 黄海霞 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种金属有机化学气相沉积装置。所述金属有机化学气相沉积装置包括反应腔、传输腔,传输装置,所述反应腔上部具有喷淋组件,所述反应腔下部设置有加热器,所述喷淋组件和所述加热器之间设置有承载部件,用以承载基片,所述反应腔还具有致动装置,所述致动装置驱动所述承载部件,所述承载部件包括上层承载部件与下层承载部件,所述上层承载部件与下层承载部件之间具有缓冲间隙,所述下层承载部件被所述加热器以非接触加热方式加热,且所述上层承载部件被所述下层承载部件以非接触传热方式加热并同时加热设置在其上的基片,所述传输装置用以在所述传输腔和所述反应腔之间传输所述上层承载部件。本发明的金属有机化学气相沉积装置可以使得待处理基片的受热更均匀。 | ||
搜索关键词: | 金属 有机化学 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种金属有机化学气相沉积装置,包括:反应腔、传输腔,传输装置,所述反应腔上部具有喷淋组件,所述反应腔下部设置有加热器,所述喷淋组件和所述加热器之间设置有承载部件,用以承载基片,所述反应腔还具有致动装置,所述致动装置驱动所述承载部件,其特征在于,所述承载部件包括上层承载部件与下层承载部件,所述上层承载部件与下层承载部件之间具有缓冲间隙,所述下层承载部件被所述加热器以非接触加热方式加热,且所述上层承载部件被所述下层承载部件以非接触传热方式加热并同时加热设置在其上的基片,所述传输装置用以在所述传输腔和所述反应腔之间传输所述上层承载部件。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的