[发明专利]具有光学隔离的通道孔与邻近修正特征的掩模及制造方法

摘要

本发明公开了一种具有光学隔离的通道孔与邻近修正特征的掩模及其制造方法，该光刻掩模包括定义通道孔的通道孔特征的通道孔图案是以行与列的形式被安置在掩模上，在掩模上的每个行与列之间具有一列及一行间距。通道孔图案是被安置成使位于邻近行中的通道孔特征是被在它们之间的至少一中介列所隔离。通道孔图案亦可被安置成使位于邻近列中的通道孔图案是被在它们之间的至少一中介行所隔离。因此，各通道孔图案的通道孔特征以及被安置在各通道孔特征周围的相关的光学邻近效应修正特征并未与围绕通道孔图案的光学邻近效应修正特征与通道孔特征重叠。

主权项

一种光刻掩模，包括：多个通道孔图案，位于一掩模上，该掩模界定一晶片上的多个通道孔，该多个通道孔图案在该掩模上具有位于在该掩模上的具有一列间距的一组邻近的通道孔列位置，以及在该掩模上具有一行间距的一组邻近的通道孔行位置的特定交点的多个通道孔位置，该多个通道孔图案包括多个通道孔特征及关于该多个通道孔特征的多个光学邻近效应修正特征的组合，该组合具有在该掩模上大于该行间距的一长度，以及在该掩模上大于该列间距的一宽度，且该多个通道孔图案中的每个通道孔图案与其他通道孔图案不重叠；其中在该组邻近的通道孔行位置的邻近行中的多个通道孔位置的列之间的一第一整数差异等于R列的一通道孔列间距整数，而在该组邻近的通道孔列位置的邻近列中的多个通道孔位置的行之间的一第二整数差异等于C行的一通道孔行间距整数，其中一整数D等于下述的其中一个：(i)该多个通道孔图案的数目的一整数N的一平方根，补足尾数至一最靠近的较高整数；以及(ii)该多个通道孔图案的数目的该整数N的该平方根，舍去尾数至一最靠近的较低整数，且该整数D等于R列的该通道孔列间距整数与C行的该通道孔行间距整数的至少一个。