[发明专利]具有光学隔离的通道孔与邻近修正特征的掩模及制造方法

权利要求书

1.一种光刻掩模，包括：

多个通道孔图案，位于一掩模上，该掩模界定一晶片上的多个通道孔，该多个通道孔图案在该掩模上具有位于在该掩模上的具有一列间距的一组邻近的通道孔列位置，以及在该掩模上具有一行间距的一组邻近的通道孔行位置的特定交点的多个通道孔位置，该多个通道孔图案包括多个通道孔特征及关于该多个通道孔特征的多个光学邻近效应修正特征的组合，该组合具有在该掩模上大于该行间距的一长度，以及在该掩模上大于该列间距的一宽度，且该多个通道孔图案中的每个通道孔图案与其他通道孔图案不重叠；

其中在该组邻近的通道孔行位置的邻近行中的多个通道孔位置的列之间的一第一整数差异等于R列的一通道孔列间距整数，而在该组邻近的通道孔列位置的邻近列中的多个通道孔位置的行之间的一第二整数差异等于C行的一通道孔行间距整数，其中一整数D等于下述的其中一个：

(i)该多个通道孔图案的数目的一整数N的一平方根，补足尾数至一最靠近的较高整数；以及

(ii)该多个通道孔图案的数目的该整数N的该平方根，舍去尾数至一最靠近的较低整数，且

该整数D等于R列的该通道孔列间距整数与C行的该通道孔行间距整数的至少一个。

2.根据权利要求1所述的掩模，其中一单元胞包括具有一组相对于彼此的相对位置的多个通道孔图案，且该掩模更包括额外多个通道孔图案，其被包括在该单元胞的一副本中，该额外多个通道孔图案具有由该单元胞的该副本的安置所决定的多个额外通道孔位置，

其中一零余数起因于下述的至少一者：

(i)该多个通道孔图案的数目的一整数N除以R列的该通道孔列间距整数，以及

(ii)该多个通道孔图案的数目的该整数N除以C行的该行间距整数，且

满足该单元胞与具有邻近位置的该单元胞的该副本，该零余数表示单元胞中的该多个通道孔位置的一第一通道孔位置以及该单元胞的该副本中的该多个额外通道孔位置的一第二通道孔位置位于该组邻近的通道孔列位置的邻近列以及该组邻近的通道孔行位置的邻近行中。

3.根据权利要求1所述的掩模，其中一单元胞包括具有一组相对于彼此的相对位置的多个通道孔图案，且该掩模更包括额外多个通道孔图案，其被包括在该单元胞的一副本中，该额外多个通道孔图案具有由该单元胞的该副本的安置所决定的多个额外通道孔位置，

其中一非零余数起因于下述的至少一者：

(i)该多个通道孔图案的数目的一整数N除以R列的该通道孔列间距整数，以及

(ii)该多个通道孔图案的数目的该整数N除以C行的该行间距整数，且

满足该单元胞与具有邻近位置的该单元胞的该副本，该非零余数表示在该单元胞中的多个通道孔位置与在该单元胞的该副本中的多个额外通道孔位置是被下述的一个或多个隔开：(i)该组邻近的通道孔列位置的至少一中介列，以及(ii)该组邻近的通道孔行位置的至少一中介行。

4.根据权利要求1所述的掩模，其中该多个光学邻近效应修正特征包括多个散射条。

5.一种集成电路布局的制造方法，包括：

利用一计算机系统将多个通道孔图案安置在定义一晶片上的多个通道孔的一掩模的一设计上，该多个通道孔图案在该掩模上具有位于在该掩模上的具有一列间距的一组邻近的通道孔列位置以及在该掩模上具有一行间距的一组邻近的通道孔行位置的特定交点的多个通道孔位置，该多个通道孔图案中的包括多个通道孔特征以及关于该多个通道孔特征的多个光学邻近效应修正特征的组合，该组合具有大于该行间距的一长度及大于该列间距的一宽度，且该多个通道孔图案中每个通道孔图案与其他通道孔图案不重叠；

其中在该组邻近的通道孔行位置的邻近行中的多个通道孔位置的列之间的一第一整数差异等于R列的一通道孔列间距整数，而在该组邻近的通道孔列位置的邻近列中的多个通道孔位置的行之间的一第二整数差异等于C行的一通道孔行间距整数，其中一整数D等于下述的其中一个：

(i)该多个通道孔图案的数目的一整数N的一平方根，补足尾数至一最靠近的较高整数；以及

(ii)该多个通道孔图案的数目的该整数N的该平方根，舍去尾数至一最靠近的较低整数，且

该整数D等于R列的该通道孔列间距整数与C行的该通道孔行间距整数的至少一个。