[发明专利]一种用于高亮度LED图形化的纳米压印装置和方法

摘要

本发明公开了一种用于高亮度LED图形化的纳米压印装置和方法。它包括：承片台、真空吸盘、衬底、紫外光固化型纳米压印抗蚀剂等，模具为薄膜状弹性复合软模具，它包括图形层和支撑层，图形层具有水溶性、薄膜结构、弹性和高透明的特性，模具的制造采用滚压印工艺。基于该装置实现LED图形化的方法：（1）预处理过程；（2）压印过程；（3）固化过程；（4）脱模过程；（5）后处理过程；（6）压印图形的转移。本发明实现了在非平整表面或曲面衬底或者易碎衬底上高效、低成本制造大面积、高深宽比微纳米结构，适合光学器件、三维微型电池、MEMS器件、光伏器件、抗反射层、自清洁表面等的规模化制造，尤其适合LED图形化和晶圆级无拼接微光学器件工业级规模化生产。

主权项

一种用于高亮度LED图形化的纳米压印装置，其特征是，它包括：承片台、真空吸盘、衬底、紫外光固化型纳米压印抗蚀剂、模具、气阀板，压印机构、紫外光光源、模具进给机构、真空管路、压力管路；其中，承片台的正上方固定真空吸盘，真空吸盘的正上方吸附着衬底，衬底上涂铺液态紫外光固化型纳米压印抗蚀剂；模具附在模具进给机构的放置薄膜状模具的辊轮、两个辅助支撑辊轮和压印后模具回收的辊轮的外面，模具通过辅助支撑辊轮放置在涂有液态紫外光固化型纳米压印抗蚀剂的衬底的上方和气阀板的下方，气阀板固定在压印机构的下方，紫外光光源固定在压印机构的上方；真空管路和压力管路与气阀板的进气口相连，真空管路和压力管路与真空吸盘的进气口相连。