[发明专利]成膜装置和基板处理装置

摘要

本发明提供成膜装置和基板处理装置。以包括气体供给部和天线的方式构成装置，该气体供给部用于向旋转台的基板载置区域侧的表面供给等离子体生成用的气体；该天线以从上述旋转台的中央部延伸到外周部的方式与该旋转台的基板载置区域侧的表面相对地设置，用于通过电感耦合使等离子体生成用的气体等离子体化。并且，上述天线以其与上述基板载置区域的靠旋转台的中央部侧的部分之间的分开距离比其与上述基板载置区域的靠旋转台的外周部侧的部分之间的分开距离大3mm以上的方式配置。

主权项

一种成膜装置，其通过在真空容器内使在基板载置区域上载置有基板的旋转台旋转而使上述基板公转来使多个处理部依次通过，由此进行依次供给多个种类的处理气体的循环来对基板进行成膜处理，其中，该成膜装置包括：气体供给部，其用于向上述旋转台的基板载置区域侧的表面供给等离子体生成用的气体；天线，其以从上述旋转台的中央部延伸到外周部的方式与该旋转台的基板载置区域侧的表面相对地设置，用于通过电感耦合来使上述等离子体生成用的气体等离子体化，上述天线以其与上述基板载置区域的靠旋转台的中央部侧的部分之间的分开距离比其与上述基板载置区域的靠旋转台的外周部侧的部分之间的分开距离大3mm以上的方式配置。