[发明专利]成膜装置和基板处理装置

权利要求书

1.一种成膜装置，其通过在真空容器内使在基板载置区域上载置有基板的旋转台旋转而使上述基板公转来使多个处理部依次通过，由此进行依次供给多个种类的处理气体的循环来对基板进行成膜处理，其中，

该成膜装置包括：

气体供给部，其用于向上述旋转台的基板载置区域侧的表面供给等离子体生成用的气体；

天线，其以从上述旋转台的中央部延伸到外周部的方式与该旋转台的基板载置区域侧的表面相对地设置，用于通过电感耦合来使上述等离子体生成用的气体等离子体化，

上述天线以其与上述基板载置区域的靠旋转台的中央部侧的部分之间的分开距离比其与上述基板载置区域的靠旋转台的外周部侧的部分之间的分开距离大3mm以上的方式配置。

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，

在与旋转台的表面平行地观察上述天线时，上述天线是以其靠旋转台的中央部侧的部位变高的方式折曲的形状或者弯曲的形状。

3.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，

上述天线是绕沿着上下方向延伸的轴线卷绕成线圈状而成的结构，至少最下部的天线部分与旋转台之间的分开距离以权利要求1所述的方式设定。

4.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，

该成膜装置包括用于支承上述天线的支承部和用于借助该支承部对天线的上下方向上的倾斜进行调整的倾斜调整机构。

5.根据权利要求4所述的成膜装置，其特征在于，

上述倾斜调整机构包括用于对天线的倾斜进行调整的驱动机构。

6.根据权利要求5所述的成膜装置，其中，

该成膜装置包括控制部，该控制部根据所输入的成膜处理的种别来确定天线的倾斜，并控制上述驱动机构，以便使天线变成所确定的倾斜。

7.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

上述天线包括多个直线部分和将直线部分彼此连结起来的节部分，并能够在上述节部分处折曲。

8.一种基板处理装置，其通过在真空容器内使在基板载置区域载置有基板的旋转台旋转而使上述基板公转来使多个处理部依次通过，由此进行依次供给多个种类的处理气体的循环来对基板进行气体处理，其中，

该基板处理装置包括：

气体供给部，其用于向上述旋转台的基板载置区域侧的表面供给等离子体生成用的气体；

天线，其以从上述旋转台的中央部延伸到外周部的方式与该旋转台的基板载置区域侧的表面相对地设置，用于通过电感耦合来使上述等离子体生成用的气体等离子体化，

上述天线以其与上述基板载置区域的靠旋转台的中央部侧的部分之间的分开距离比其与上述基板载置区域的靠旋转台的外周部侧的部分之间的分开距离大3mm以上的方式配置。

9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中，

在与旋转台的表面平行地观察上述天线时，上述天线是以其靠旋转台的中央部侧的部位变高的方式折曲的形状或者弯曲的形状。

10.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中，

上述天线是绕沿着上下方向延伸的轴线卷绕成线圈状而成的结构，至少最下部的天线部分与旋转台之间的分开距离以权利要求1所述的方式设定。

11.根据权利要求8所述基板处理装置，其中，

该成膜装置包括用于支承上述天线的支承部和用于借助该支承部对天线的上下方向上的倾斜进行调整的倾斜调整机构。

12.根据权利要求11所述的基板处理装置，其特征在于，

上述倾斜调整机构包括用于对天线的倾斜进行调整的驱动机构。

13.根据权利要求12所述的基板处理装置，其中，

该成膜装置包括控制部，该控制部根据所输入的成膜处理的种别来确定天线的倾斜，并控制上述驱动机构，以便使天线变成所确定的倾斜。

14.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，

上述天线包括多个直线部分和将直线部分彼此连结起来的节部分，并能够在上述节部分处折曲。