[发明专利]光刻群集和模块化以提高生产率有效
申请号: | 201210300877.3 | 申请日: | 2012-08-22 |
公开(公告)号: | CN103367200A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 黄义雄;刘恒信;李宏仁;林进祥 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;G03F7/00 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;孙征 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明涉及光刻群集和模块化以提高生产率,公开了用于半导体工件处理的光刻工具装置。光刻工具装置将光刻工具组为群集,并且在第一群集中的第一类型的多个光刻工具和第二群集中的第二类型的多个光刻工具之间选择性地传送半导体工件。选择性传送通过连接至缺陷扫描工具的传送组件实现,缺陷扫描工具识别在第一类型的光刻工具中生成的缺陷。所公开的光刻工具装置还利用诸如壳体组件的共享结构元件以及诸如气体和化学物质的共享功能元件。光刻工具装置可以由烘焙、涂布、曝光以及显影单元构成,被配置成提供这些多种组件的模块化,以优化用于给定光刻制造处理的产量和效率。 | ||
搜索关键词: | 光刻 群集 模块化 提高生产率 | ||
【主权项】:
一种用于半导体工件处理的光刻工具装置,包括:第一群集工具,包括第一类型的多个光刻工具;第二群集工具,包括第二类型的多个光刻工具,其中,所述第二类型不同于所述第一类型;以及第一传送组件,被配置成将半导体工件从所述第一类型的多个第一光刻工具中的任一个移动到所述第二类型的多个第二光刻工具中的任一个中。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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