[发明专利]光刻群集和模块化以提高生产率有效

专利信息
申请号: 201210300877.3 申请日: 2012-08-22
公开(公告)号: CN103367200A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: 黄义雄;刘恒信;李宏仁;林进祥 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;G03F7/00
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;孙征
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及光刻群集和模块化以提高生产率,公开了用于半导体工件处理的光刻工具装置。光刻工具装置将光刻工具组为群集,并且在第一群集中的第一类型的多个光刻工具和第二群集中的第二类型的多个光刻工具之间选择性地传送半导体工件。选择性传送通过连接至缺陷扫描工具的传送组件实现,缺陷扫描工具识别在第一类型的光刻工具中生成的缺陷。所公开的光刻工具装置还利用诸如壳体组件的共享结构元件以及诸如气体和化学物质的共享功能元件。光刻工具装置可以由烘焙、涂布、曝光以及显影单元构成,被配置成提供这些多种组件的模块化,以优化用于给定光刻制造处理的产量和效率。
搜索关键词: 光刻 群集 模块化 提高生产率
【主权项】:
一种用于半导体工件处理的光刻工具装置,包括:第一群集工具,包括第一类型的多个光刻工具;第二群集工具,包括第二类型的多个光刻工具,其中,所述第二类型不同于所述第一类型;以及第一传送组件,被配置成将半导体工件从所述第一类型的多个第一光刻工具中的任一个移动到所述第二类型的多个第二光刻工具中的任一个中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210300877.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top