[发明专利]局部表面处理的屏蔽方法有效
申请号: | 201210254278.2 | 申请日: | 2012-07-23 |
公开(公告)号: | CN103572342A | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | 刘维林 | 申请(专利权)人: | 崇鼎科技有限公司 |
主分类号: | C25D5/02 | 分类号: | C25D5/02;C23F1/02;B05D1/32;G03F7/00 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 王洁 |
地址: | 中国台湾桃园县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明系提供一种局部表面处理的屏蔽方法,用以屏蔽一工件以对工件进行局部表面处理,工件具有一目标处理区域及一非处理区域,方法包括下列步骤:将一治具遮盖于工件的非处理区域,而暴露工件的目标处理区域;利用于治具与工件之间的一吸附力,而使治具与工件的非处理区域相互紧贴,并使治具的一开放边缘贴齐于工件的目标处理区域的边缘,吸附力为一真空吸附力或一静电吸附力,藉此表面处理的影响范围不会超过目标处理区域的边界,进而减少加工瑕疵产生的机会。 | ||
搜索关键词: | 局部 表面 处理 屏蔽 方法 | ||
【主权项】:
一种局部表面处理的屏蔽方法,用以屏蔽一工件以对该工件进行局部表面处理,该工件具有一目标处理区域及一非处理区域,其特征在于,该屏蔽方法包括下列步骤:(a)将一治具遮盖于该工件的非处理区域,而暴露该工件的目标处理区域;(b)利用于该治具与该工件之间的一吸附力,而使该治具与该工件的非处理区域相互紧贴,并使该治具的一开放边缘贴齐于该工件的目标处理区域的边缘,该吸附力系为一真空吸附力或一静电吸附力。
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