[发明专利]一种短沟道围栅结构MOSFET的阈值电压解析模型有效

专利信息
申请号: 201210204444.8 申请日: 2012-06-20
公开(公告)号: CN102779205A 公开(公告)日: 2012-11-14
发明(设计)人: 顾经纶;颜丙勇 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 王敏杰
地址: 201210 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种计算短沟道围栅结构MOSFET阈值电压的解析模型。在全耗尽以及弱反型的假设下求解二维泊松方程,在一定边界条件的制约下得到沟道电势的分布模型。通过高斯盒子的方法得到栅氧化层的电压降,然后根据本发明定义阈值电压的方法以及本发明求出的沟道电势分布模型推导得到短沟道围栅器件阈值电压解析模型。本发明的阈值电压解析模型形式简洁、物理概念清晰,且计算精度高,为电路级仿真软件提供了新型围栅器件的阈值电压解析模型。
搜索关键词: 一种 沟道 结构 mosfet 阈值 电压 解析 模型
【主权项】:
1.一种短沟道围栅结构MOSFET的阈值电压解析模型,其特征在于该阈值电压模型的解析式为:,其中是内建电势,是漏电压,是栅电压,是平带电压,分别氧化层厚度以及氧化层介电常数,分别是沟道长度以及圆柱半径;是氧化层单位面积电容;费米势是掺杂的受主杂质浓度分别是硅和栅氧化层的介电常数;半导体表面处电势最低点即虚拟阴极处,式子中:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210204444.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top