[发明专利]气相沉积装置无效
| 申请号： | 201210192079.3 | 申请日： | 2012-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN103484836A | 公开（公告）日： | 2014-01-01 |
| 发明（设计）人： | 刘恒 | 申请（专利权）人： | 绿种子材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/52 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;常大军 |
| 地址： | 大开曼岛*** | 国省代码： | 开曼群岛;KY |
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| 摘要： | 一种气相沉积装置，包括：一反应腔体，具有一供气装置；一管线系统，连接供气装置；以及，至少一反应物供应瓶，每一反应物供应瓶分别储存一反应物，至少一反应物供应瓶以一控温装置包覆，控温装置具有一输入端与一输出端，使得一调控流体流入第一输入端后再流出该输出端，维持控温装置内部装载调控流体。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 装置 | ||
【主权项】：
一种气相沉积装置，其特征在于，包括：一反应腔体，具有一供气装置；一管线系统，连接该供气装置；以及至少一反应物供应瓶，每一该反应物供应瓶分别储存一反应物，该至少一反应物供应瓶以一控温装置包覆，该控温装置具有一输入端与一输出端，使得一调控流体流入该输入端后再流出该输出端，维持该反应物在一预设温度。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
