[发明专利]一种在光子晶体中引入缺陷的方法有效
| 申请号： | 201210149602.4 | 申请日： | 2012-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN102707379A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 宋李烟;王自鑫;谢向生;周建英 | 申请（专利权）人： | 中山大学 |
| 主分类号： | G02B6/138 | 分类号： | G02B6/138;G02B6/13 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 林丽明;林伟斌 |
| 地址： | 510275 *** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在光子晶体中引入缺陷的方法，包括：1、取折射率和光刻胶相近且不相等的均匀液体滴在阶梯型薄膜的膜层阶梯处，阶梯型薄膜在和光刻胶相接的空气隙里均匀展开并吸附在一起，组成阶梯膜曝光系统；2、将阶梯膜曝光系统调节到全息光刻光路的焦平面处；3、利用CCD对相干光强模式进行实时监控；4、重复步骤2和3，直到CCD中观察到光强分布达到对比度最大，表明此时二维干涉模式质量最好；打开全息光刻光路激光进行曝光，根据光刻胶曝光剂量和曝光深度的相关数据，反推相干光强，结合相干区域光斑面积大小，最终确定曝光时间；5、曝光完成后，对阶梯型薄膜显影，除去因曝光剂量不足而未固化部分，得到缺陷结构。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光子 晶体 引入 缺陷 方法 | ||
【主权项】：
一种在光子晶体中引入缺陷结构的方法，包括以下步骤：（1）取折射率和光刻胶相近且不相等的均匀液体滴在阶梯型薄膜的膜层阶梯处，阶梯型薄膜在和光刻胶相接的空气隙里均匀展开并吸附在一起，组成阶梯膜曝光系统； （2）使用全息光刻光路制备光子晶体，将阶梯膜曝光系统调节到全息光刻光路的焦平面处； （3）利用CCD对相干光强模式进行实时监控； （4）重复步骤（2）和（3），直到在CCD中观察到的光强分布达到对比度最大，表明此时的二维干涉模式质量最好；打开全息光刻光路的激光进行曝光，根据利用光刻胶的曝光剂量和曝光深度的相关数据，反推到相干光强，并结合相干区域光斑的面积大小，最终确定曝光时间； （5）曝光完成后，对阶梯型薄膜进行显影，除去因曝光剂量不足而未固化部分，得到缺陷结构。
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