专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]近眼显示装置-CN202211000896.4在审
  • 谢向生;单浩铭;吴防汛 - 汕头大学
  • 2022-08-19 - 2022-11-04 - G02B27/01
  • 本发明创造公开了近眼显示装置,包括:外透镜单元,其设有沿阵列分布的多个第一微透镜;内透镜单元,其设在所述外透镜单元的内侧,所述内透镜单元设有沿阵列分布的多个第二微透镜,所有的第二微透镜与所有的第一微透镜分别一一对应设置,所述第一微透镜具有从外往内发散光线的结构,所述第二微透镜具有从外往内会聚光线的结构;微显示器,其数量为多个,每个所述第二微透镜与对应的所述第一微透镜之间均设有一个所述微显示器,每个所述微显示器的显示面均朝向所述第二微透镜。本发明创造能够兼顾实景与虚拟图像的成像,并可实现大视场角成像的同时,还能够提升虚拟图像的亮度,相比于现有技术,本发明创造更具技术优势。
  • 显示装置
  • [发明专利]基于micro-LED的非扫描共聚焦显微系统-CN202011173080.2在审
  • 谢向生;朱晓彤 - 汕头大学
  • 2020-10-28 - 2021-03-19 - G01N21/64
  • 本发明公开了基于micro‑LED的非扫描共聚焦显微系统,包括:照明光源,准直透镜、聚焦透镜、第一透镜、物镜、控制模块和CCD阵列,照明光源发出的光通过准直透镜得到平行光,聚焦透镜将平行光聚焦并作用在样品,通过样品调制后输出的光依次通过第一透镜和物镜作用在CCD阵列中,照明光源包括若干个micro‑LED发光芯片,micro‑LED发光芯片组成阵列,micro‑LED发光芯片的尺寸≤50μm,micro‑LED发光芯片之间的距离等于一个micro‑LED发光芯片的尺寸,控制模块用于控制micro‑LED发光芯片有序开关。通过micro‑LED发光芯片的小尺寸和阵列可控性,与CCD阵列构成共轭成像,提升了整体的成像分辨率。本发明主要用于显微成像技术领域。
  • 基于microled扫描聚焦显微系统
  • [发明专利]基于光束轨道角动量解调装置-CN201310680948.1在审
  • 孙华阳;谢向生;杨良信;周建英 - 中山大学
  • 2013-12-13 - 2014-04-09 - G02F2/00
  • 本发明涉及光电技术领域的装置,更具体地,涉及一种基于光束轨道角动量解调装置,包括激光器、第一调制模块、角动量发生模块、第二调制模块、解调模块,激光器输出相互平行的光束,所述光束依次经过第一调制模块、角动量发生模块、第二调制模块、解调模块形成光路,解调模块与第二调制模块之间设置有可活动放置的用于产生干涉图像的干涉模块。干涉模块的设置是为了生成对称的花瓣状干涉图样,得到拓扑荷值,以利用光强公式对轨道角动量进行相位恢复。通过对经过检偏器干涉图样和未经检偏器光斑图样的质量检测,可对轨道角动量模式相位中奇点附近的相位进行恢复,可减少解调出错机率,降低误码率,提高通信可靠性。
  • 基于光束轨道角动量解调装置
  • [发明专利]一种自适应光斑轮廓调控及测量系统-CN201210242404.2有效
  • 周建英;李丽;谢向生 - 中山大学
  • 2012-07-13 - 2012-11-14 - G01B11/24
  • 本发明涉及一种自适应光斑轮廓调控及测量系统,包括光学系统(1)、扫描探测系统(2)、反馈控制系统(3);光学系统依次包括激光器(10),空间滤波器(11)、透镜(12)、第一空间光调制器(13)、偏振调控装置(14)和聚焦物镜(15);激光器(10)出射激光,空间滤波器(11)用于滤掉激光的杂散光和高阶光斑影响,透镜(12)对激光进行扩束,第一个空间光调制器(13)控制激光的空间相位分布,偏振调控装置(14)用于控制激光的偏振分布;反馈控制系统(3)对测量光斑大小进行比较进而对第一空间光调制器(13)及偏振调控装置(14)加以反馈控制。本发明实现对突破衍射极限光场的表征,同时引入自适应技术,结合刀边法测量来寻找光场经调制后突破衍射极限的聚焦尺度最小的光斑。
  • 一种自适应光斑轮廓调控测量系统
  • [发明专利]一种在光子晶体中引入缺陷的方法-CN201210149602.4有效
  • 宋李烟;王自鑫;谢向生;周建英 - 中山大学
  • 2012-05-15 - 2012-10-03 - G02B6/138
  • 本发明涉及一种在光子晶体中引入缺陷的方法,包括:1、取折射率和光刻胶相近且不相等的均匀液体滴在阶梯型薄膜的膜层阶梯处,阶梯型薄膜在和光刻胶相接的空气隙里均匀展开并吸附在一起,组成阶梯膜曝光系统;2、将阶梯膜曝光系统调节到全息光刻光路的焦平面处;3、利用CCD对相干光强模式进行实时监控;4、重复步骤2和3,直到CCD中观察到光强分布达到对比度最大,表明此时二维干涉模式质量最好;打开全息光刻光路激光进行曝光,根据光刻胶曝光剂量和曝光深度的相关数据,反推相干光强,结合相干区域光斑面积大小,最终确定曝光时间;5、曝光完成后,对阶梯型薄膜显影,除去因曝光剂量不足而未固化部分,得到缺陷结构。
  • 一种光子晶体引入缺陷方法
  • [发明专利]相位全息与近场光学显微镜联用制备装置及其应用方法-CN201110147443.X无效
  • 谢向生;王自鑫;周建英;张培晴 - 中山大学
  • 2011-06-02 - 2011-12-14 - G03H1/12
  • 本发明采用相位控制的光学全息制备法同近场扫描的逐点加工法进行微纳光子器件的制备技术。相位控制的全息制备法能够制备各种基本的布拉菲结构,基于单个棱台的光路设计简单紧凑,引入纯相位的空间光调制后结构和位置可调,以实现多种光子晶体周期结构制备。同时采用近场光学显微镜对相控全息所形成的光场分布进行高分辨检测与记录,实现近场探针的定位,可以对全息的周期光场分布进行选择性的缺陷加工。本发明的意义在于对光刻材料进行一次曝光,就可获得各种带功能缺陷的光子晶体结构。本发明是集成电子与计算机控制、光子检测、近场微区操控以及精密光机电系统等高新技术的综合实验技术,为微纳光子器件的设计与制备提供有效的解决方案。
  • 相位全息近场光学显微镜联用制备装置及其应用方法
  • [发明专利]智能型裸眼立体显示系统及其控制方法-CN201110036830.6有效
  • 周建英;王嘉辉;王自鑫;周延桂;彼得·克莱伯斯;谢向生 - 中山大学
  • 2011-02-12 - 2011-07-13 - H04N13/00
  • 本发明公开一种智能型裸眼立体显示系统,其包括显示设备及立体图像信号源,所述立体图像信号源向显示设备同时传送图像信号,显示设备负责显示由立体图像信号源送来的视差图像,该显示设备由第一显示单元和第二显示单元组成,该图像信号包括同步显示的第一、第二立体子视频,所述第一立体子视频和第二立体子视频分别传输到所述第一显示单元和第二显示单元;还包括与所述显示设备连接的自适应装置,所述自适应装置用于实时采集观众的实况图像处理后并调整显示设备的光学投影的焦距与投影方向,将视差图像分别投影到观众对应的眼睛。本发明是一种可裸眼观看、能消除昏眩感、亮度较高、成本低、成像立体效果强的智能型裸眼立体显示系统。
  • 智能型裸眼立体显示系统及其控制方法
  • [发明专利]一种超短脉冲激光倍频连续衰减器-CN200910214228.X无效
  • 周建英;张培晴;关烨锋;谢向生 - 中山大学
  • 2009-12-25 - 2010-06-23 - G02F1/35
  • 本发明公开了一种超短脉冲激光倍频连续衰减器,包括将超短脉冲激光扩束并分割为至少四束平行光的光学系统、对一束所述平行光相位进行调制的液晶调制器、用于调整施加于液晶调制器电压的液晶电压控制系统、用于将调制后的所述平行光进行聚焦并倍频的聚焦装置和倍频晶体。本发明是利用超短脉冲激光和频效应实现对其倍频光强度的调制,在超短脉冲激光产生倍频光的过程中,控制倍频晶体中的倍频效率从而实现对超短脉冲激光的倍频光强度的连续可调。本发明提供的超短脉冲激光倍频连续衰减器结构简单、能够防止脉冲光脉冲宽度和形状的改变、光斑质量均匀、且不会对衰减器件造成损伤、能够超短脉冲的强度进行连续调整。
  • 一种超短脉冲激光倍频连续衰减器
  • [发明专利]一种空间光场合成自适应系统的控制方法-CN200910041227.X无效
  • 周建英;关烨锋;张培晴;谢向生 - 中山大学
  • 2009-07-17 - 2009-12-30 - G05B19/04
  • 本发明公开一种空间光场合成自适应系统的控制方法,包括以下步骤:a.计算机控制系统产生目标光场分布图及电压信号,把电压信号加至液晶空间光调制器;b.多束相干光通过调制干涉,得到光场分布图;c.采集光场分布图,与目标光场分布图利用误差函数进行比较,得到差值A;d.选择液晶像素使其电压值增加小增量,对相干光重新调制,得到新光场分布图,与目标光场分布图比较,得到差值B,B比A小时,将光场分布图保存,将A更新为B,执行下一步骤;B比A大时,计算接收容许度,B在容许度内将A更新为B,否则保留A;e.在当前温度下重复步骤d N次,然后降温,当降到预定温度或A达到预定值时,完成液晶空间光调制器自适应控制。
  • 一种空间合成自适应系统控制方法
  • [发明专利]一种自适应的空间光场合成系统-CN200910039735.4无效
  • 周建英;谢向生;关烨锋 - 中山大学
  • 2009-05-26 - 2009-10-28 - G02F1/13
  • 本发明属于微纳光子器件制备控制工程领域,涉及一种自适应的空间光场合成系统,其包括光学系统及计算机反馈控制系统,该光学系统用于将多束平行相干光经过一液晶空间光调制器后汇聚干涉,并将干涉光传输给计算机反馈控制系统,该计算机反馈控制系统用于采集干涉光场分布图,并产生目标光场分布图与收集到的干涉光场分布图进行运算比较,根据运算比较结果反馈控制液晶空间光调制器的液晶电压。本发明制作效率高且易于操作。
  • 一种自适应空间合成系统
  • [发明专利]一种全息印刷技术中光场的控制方法及其系统-CN200610122927.8无效
  • 周建英;王自鑫;谢向生 - 中山大学
  • 2006-10-20 - 2007-04-11 - G02F1/01
  • 本发明涉及光机电一体化方向微位移控制技术和全息照相平面印刷技术领域,目的在于克服现有技术中的不足,提供一种能够有效的消除光场相位变化对印刷效果的影响,提高分辨率,并使得通过控制光场相位来控制干涉图案变化在技术上成为可能的全息印刷技术中光场的控制方法及其系统。所述系统结构包括:用于对任何角度的多束相干光进行两两分离并实现两两相干光非共线光调节成共线光的光学系统;用于测量两两共线光的干涉条纹光强的测量系统;和用于将光强变化信号转化成控制信号实现两束光相位锁定的反馈控制系统。
  • 一种全息印刷技术中光场控制方法及其系统

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