[发明专利]一种制作阵列部分环带光子筛匀光器的方法无效
| 申请号： | 201210142241.0 | 申请日： | 2009-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN102681170A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | 贾佳;谢长青;刘明 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09;G02B5/18;G02B27/42;G03F7/20;G03F7/36 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 100083 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制作阵列部分环带光子筛匀光器的方法，该方法利用大规模集成电路工艺技术和平面光刻工艺技术实现，包括：利用电子束直写法制作出母版；通过接触式光刻法将母版图案转移到涂有光刻胶的光学玻璃上；利用感应耦合等离子刻蚀技术，将移到光学玻璃光刻胶上的图案刻蚀到光学玻璃中。利用本发明，实现了对高斯光束和其它不均匀非平面波前光束的波前平顶化，实现光束的匀光，实现接近平面的波前光束。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制作 阵列 部分 环带 光子 筛匀光器 方法 | ||
【主权项】：
一种制作阵列部分环带光子筛匀光器的方法，其特征在于，该方法利用大规模集成电路工艺技术和平面光刻工艺技术实现，包括：利用电子束直写法制作出母版；通过接触式光刻法将母版图案转移到涂有光刻胶的光学玻璃上；利用感应耦合等离子刻蚀技术，将移到光学玻璃光刻胶上的图案刻蚀到光学玻璃中。
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