[发明专利]等离子体生成用电极和等离子体处理装置有效

专利信息
申请号: 201210141209.0 申请日: 2012-05-08
公开(公告)号: CN102779715A 公开(公告)日: 2012-11-14
发明(设计)人: 南雅人;佐佐木芳彦 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 金世煜;苗堃
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及等离子体生成用电极和等离子体处理装置。本发明提供一种对FPD用基板进行等离子体处理时难以产生异常放电、颗粒化的问题的等离子体生成用电极。等离子体生成用电极(20)具备:主体,具有与配置于腔室(2)内的平板显示用基板(G)相对的对置面(F),对由铝或铝合金构成的基材(20a)的表面进行阳极氧化处理而具有阳极氧化被膜(20b);多个气体喷出孔(22),在主体的对置面(F)开口而成;陶瓷喷镀被膜(23),至少形成在对置面(F)的气体喷出孔(22)的开口部(22c)。在对置面(F),陶瓷喷镀被膜(23)之间的部分露出主体的面。
搜索关键词: 等离子体 生成 用电 处理 装置
【主权项】:
一种等离子体生成用电极,其特征在于,在对平板显示用基板进行等离子体处理的电容耦合型等离子体处理装置的处理容器内,与平板显示用基板对置地进行配置,该电极具有:主体,具有与配置于所述处理容器内的平板显示用基板相对的对置面,对由铝或铝合金构成的基材的表面实施阳极氧化处理而构成,至少所述对置面为阳极氧化被膜,多个气体喷出孔,为了向所述处理容器内导入用于生成等离子体的处理气体而在所述主体的所述对置面开口而成,陶瓷喷镀被膜,至少形成在所述对置面中的所述气体喷出孔的开口部;在所述对置面,所述陶瓷喷镀被膜之间的部分露出所述主体的所述对置面。
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