[发明专利]等离子体生成用电极和等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体生成用电极，其特征在于，在对平板显示用基板进行等离子体处理的电容耦合型等离子体处理装置的处理容器内，与平板显示用基板对置地进行配置，该电极具有：

主体，具有与配置于所述处理容器内的平板显示用基板相对的对置面，对由铝或铝合金构成的基材的表面实施阳极氧化处理而构成，至少所述对置面为阳极氧化被膜，

多个气体喷出孔，为了向所述处理容器内导入用于生成等离子体的处理气体而在所述主体的所述对置面开口而成，

陶瓷喷镀被膜，至少形成在所述对置面中的所述气体喷出孔的开口部；

在所述对置面，所述陶瓷喷镀被膜之间的部分露出所述主体的所述对置面。

2.根据权利要求1所述的等离子体生成用电极，其特征在于，所述陶瓷喷镀被膜由氧化铝、氧化钇和氟化钇中的任一种材料构成。

3.根据权利要求1或2所述的等离子体生成用电极，其特征在于，所述气体喷出孔的所述开口部在包含所述气体喷出孔的中心轴的剖面中构成扩张状的曲线，所述陶瓷喷镀被膜沿着所述扩张状的曲线形成。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的等离子体生成用电极，其特征在于，所述陶瓷喷镀被膜以每一个气体喷出孔为单位而形成在多个位置，相邻的陶瓷喷镀被膜彼此分离，所述相邻的陶瓷喷镀被膜之间的部分露出所述主体的所述对置面。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的等离子体生成用电极，其特征在于，所述陶瓷喷镀被膜以多个气体喷出孔为单位而形成多个，相邻的陶瓷喷镀被膜彼此分离，所述相邻的陶瓷喷镀被膜之间的部分露出所述主体的所述对置面。

6.根据权利要求5所述的等离子体生成用电极，其特征在于，所述陶瓷喷镀被膜以直线状排列的多个气体喷出孔为单位而呈线状地形成多个。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的等离子体生成用电极，其特征在于，所述主体为箱状部件。

8.根据权利要求1～6中任一项所述的等离子体生成用电极，其特征在于，所述主体为板状部件。

9.一种等离子体处理装置，其特征在于，是对平板显示用基板进行等离子体处理的电容耦合型等离子体处理装置，具有：

处理容器，收纳平板显示用基板，

载置台，设置于所述处理容器内，载置平板显示用基板，具有下部电极，

上部电极，由所述权利要求1～8中任一项的等离子体生成用电极构成，

处理气体供给机构，向所述处理容器内供给处理气体，

高频电力供给机构，用于向所述上部电极和所述下部电极的至少一方供给高频电力而在所述处理容器内形成所述处理气体的等离子体。