[发明专利]化学气相沉积系统无效
申请号: | 201210124576.X | 申请日: | 2012-04-25 |
公开(公告)号: | CN103374709A | 公开(公告)日: | 2013-10-30 |
发明(设计)人: | 方建中;杨成傑;郑祥炬 | 申请(专利权)人: | 绿种子材料科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/458;C23C16/46 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁挥;常大军 |
地址: | 中国台湾台北市信*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明揭露一种化学气相沉积系统,尤指一种可快速冷却其加热器的化学气相沉积系统,包含一反应腔体、一载盘、一加热器及一支撑座,其中冷却气体可经由支撑座中的冷却气体通道及出气孔喷出,藉以快速冷却加热器及其周边元件。 | ||
搜索关键词: | 化学 沉积 系统 | ||
【主权项】:
一种化学气相沉积系统,其特征在于,包含:一反应腔体;一载盘,设置于该反应腔体中,具有一第一表面及一相对于该第一表面的第二表面,该第一表面用以承载至少一基板;一加热器,设置于该反应腔体中并面向该第二表面,用以加热该至少一基板;及一支撑座,用以支撑该载盘,其中,该支撑座中设有一冷却气体通道,且该支撑座上设有至少一出气孔,该至少一出气孔位于该第二表面的同一侧,并连通该冷却气体通道以供一冷却气体流通。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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