[发明专利]掩膜及其制造方法有效
申请号: | 201210109750.3 | 申请日: | 2012-04-12 |
公开(公告)号: | CN102645838A | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 萧智鸿;张玮志;翁照钦 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F1/54;G03F7/00 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁挥;王颖 |
地址: | 中国台湾新竹科*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开一种掩膜及其制造方法。掩膜包括一透明基板以及一图案化玻璃胶层。透明基板具有一图案区以及一非图案区。图案化玻璃胶层位于图案区的部分为透光状态,且位于非图案区的部分是不透光状态。本发明更提出一种掩膜的制造方法。首先,提供一透明基板,透明基板具有一图案区以及一非图案区。接着,在透明基板上配置一玻璃料层。再来,固化玻璃料层,以形成不透光的一玻璃胶层。最后,将位于图案区的玻璃胶层转换为透光状态,以形成一图案化玻璃胶层。本发明的掩膜及其制造方法可减少化学药剂的使用量、降低成本并且简化制造流程。 | ||
搜索关键词: | 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种掩膜的制造方法,其特征在于,包括:提供一透明基板,该透明基板具有一图案区以及一非图案区;在该透明基板上配置一玻璃料层;固化该玻璃料层,以形成一玻璃胶层,其中该玻璃胶层是不透光状态;以及将位于该图案区的该玻璃胶层转换为透光状态,以形成一图案化玻璃胶层。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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