[发明专利]掩膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210109750.3 申请日: 2012-04-12
公开(公告)号: CN102645838A 公开(公告)日: 2012-08-22
发明(设计)人: 萧智鸿;张玮志;翁照钦 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00;G03F1/54;G03F7/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;王颖
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开一种掩膜及其制造方法。掩膜包括一透明基板以及一图案化玻璃胶层。透明基板具有一图案区以及一非图案区。图案化玻璃胶层位于图案区的部分为透光状态,且位于非图案区的部分是不透光状态。本发明更提出一种掩膜的制造方法。首先,提供一透明基板,透明基板具有一图案区以及一非图案区。接着,在透明基板上配置一玻璃料层。再来,固化玻璃料层,以形成不透光的一玻璃胶层。最后,将位于图案区的玻璃胶层转换为透光状态,以形成一图案化玻璃胶层。本发明的掩膜及其制造方法可减少化学药剂的使用量、降低成本并且简化制造流程。
搜索关键词: 及其 制造 方法
【主权项】:
一种掩膜的制造方法,其特征在于,包括:提供一透明基板,该透明基板具有一图案区以及一非图案区;在该透明基板上配置一玻璃料层;固化该玻璃料层,以形成一玻璃胶层,其中该玻璃胶层是不透光状态;以及将位于该图案区的该玻璃胶层转换为透光状态,以形成一图案化玻璃胶层。
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