[发明专利]掩膜及其制造方法有效
| 申请号： | 201210109750.3 | 申请日： | 2012-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN102645838A | 公开（公告）日： | 2012-08-22 |
| 发明（设计）人： | 萧智鸿;张玮志;翁照钦 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F1/54;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;王颖 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 及其 制造 方法 | ||
1.一种掩膜的制造方法，其特征在于，包括：
提供一透明基板，该透明基板具有一图案区以及一非图案区；
在该透明基板上配置一玻璃料层；
固化该玻璃料层，以形成一玻璃胶层，其中该玻璃胶层是不透光状态；以及
将位于该图案区的该玻璃胶层转换为透光状态，以形成一图案化玻璃胶层。
2.根据权利要求1所述的掩膜的制造方法，其特征在于，其中固化该玻璃料层的方法包括烧结工艺。
3.根据权利要求1所述的掩膜的制造方法，其特征在于，其中固化该玻璃料层的方法包括：
前段烧结工艺，以去除该玻璃料层的溶剂；以及
后段烧结工艺，以形成该玻璃胶层。
4.根据权利要求1所述的掩膜的制造方法，其特征在于，其中转换该玻璃胶层为透光状态的方法包括照射一光源于该图案区的该玻璃胶层。
5.根据权利要求4所述的掩膜的制造方法，其特征在于，其中该光源包括激光或红外线。
6.根据权利要求1所述的掩膜的制造方法，其特征在于，其中配置该玻璃料层的方法为旋转涂布或网版印刷。
7.根据权利要求1所述的掩膜的制造方法，其特征在于，其中该玻璃胶层包含总重量百分比低于25％的氧化锰、氧化锌与氧化镁。
8.一种掩膜，其特征在于，包括：
一透明基板，该透明基板具有一图案区以及一非图案区；以及
一图案化玻璃胶层，设置于该透明基板上，其中该图案化玻璃胶层位于该图案区的部分为透光状态，而位于该非图案区的部分是不透光状态。
9.根据权利要求8所述的掩膜，其特征在于，其中该图案化玻璃胶层位于该图案区的部分通过一光源将一玻璃胶层从不透光状态转换为透光状态。
10.根据权利要求9所述的掩膜，其特征在于，其中该光源包括激光或红外线。
11.根据权利要求9所述的掩膜，其特征在于，其中该玻璃胶层包含总重量百分比低于25％的氧化锰、氧化锌与氧化镁。
12.根据权利要求9所述的掩膜，其特征在于，其中该玻璃胶层包含总重量百分比低于10％的氧化锰。
13.根据权利要求9所述的掩膜，其特征在于，其中该玻璃胶层包含总重量百分比低于10％的氧化锌。
14.根据权利要求9所述的掩膜，其特征在于，其中该玻璃胶层包含总重量百分比低于5％的氧化镁。
15.根据权利要求8所述的掩膜，其特征在于，其中该图案化玻璃胶层远离该透明基板的表面为平滑表面。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司，未经友达光电股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210109750.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种手动滑动抽拉梯台
- 下一篇：铝合金迎宾踏板
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
