[发明专利]薄膜晶体管及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201210053150.X 申请日: 2012-03-02
公开(公告)号: CN102569417A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 张锡明 申请(专利权)人: 福州华映视讯有限公司;中华映管股份有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L21/34
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 350015 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明涉及一种薄膜晶体管及其制作方法,该薄膜晶体管包括一基板、一闸极、一闸极绝缘层、一氧化物半导体层、一保护层、一源极以及一汲极。闸极、闸极绝缘层以及氧化物半导体层依序设置于基板上。保护层设置于氧化物半导体层上,且保护层的侧边与氧化物半导体层的侧边切齐。源极与汲极设置于保护层上方。该薄膜晶体管的制作方法的步骤为:提供一基板,且形成一闸极于基板上。接着,形成一闸极绝缘层于闸极上,且形成一氧化物半导体层全面性覆盖闸极绝缘层。随后,形成一保护层全面性覆盖氧化物半导体层。图案化保护层以及氧化物半导体层,使保护层的侧边与氧化物半导体层的侧边切齐。
搜索关键词: 薄膜晶体管 及其 制作方法
【主权项】:
一种薄膜晶体管,其特征在于,包括:一基板;一闸极,设置于该基板上;一闸极绝缘层,设置于该闸极上;一氧化物半导体层,设置于该闸极绝缘层上;一保护层,包括一第一保护层与一第二保护层依序设置于该氧化物半导体层上,且该保护层的侧边与该氧化物半导体层的侧边切齐;以及一源极与一汲极,设置于该保护层上方。
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