[发明专利]成膜方法及成膜装置

摘要

本发明提供成膜方法和成膜装置。该成膜方法通过向基板交替供给至少第1原料气体和第2原料气体而在基板上堆积由第1原料气体和第2原料气体的反应产生的反应生成物质的薄膜。该方法包括：不向用于收容基板的处理容器内供给气体而对处理容器内进行真空排气的步骤；向处理容器内供给非活性气体直到处理容器内成为规定压力的步骤；在处理容器内的真空排气停止的状态下向以规定压力充满了非活性气体的处理容器内供给第1原料气体的步骤；停止供给第1原料气体并且对处理容器内进行真空排气的步骤；向处理容器内供给第2原料气体的步骤；停止供给第2原料气体并且对处理容器内进行真空排气的步骤。

主权项

一种成膜方法，其通过向基板交替供给至少第1原料气体和第2原料气体而在上述基板上堆积由上述第1原料气体和上述第2原料气体的反应产生的反应生成物质的薄膜，该成膜方法包括：不向用于收容上述基板的处理容器内供给气体而对上述处理容器内进行真空排气的步骤；向上述处理容器内供给非活性气体直到上述处理容器内成为规定压力的步骤；在上述处理容器内的真空排气停止的状态下向以上述规定压力充满了上述非活性气体的上述处理容器内供给上述第1原料气体的步骤；停止供给上述第1原料气体并且对上述处理容器内进行真空排气的步骤；向上述处理容器内供给上述第2原料气体的步骤；停止供给上述第2原料气体并且对上述处理容器内进行真空排气的步骤。