[发明专利]成膜方法及成膜装置

权利要求书

1.一种成膜方法，其通过向基板交替供给至少第1原料气体和第2原料气体而在上述基板上堆积由上述第1原料气体和上述第2原料气体的反应产生的反应生成物质的薄膜，

该成膜方法包括：

不向用于收容上述基板的处理容器内供给气体而对上述处理容器内进行真空排气的步骤；

向上述处理容器内供给非活性气体直到上述处理容器内成为规定压力的步骤；

在上述处理容器内的真空排气停止的状态下向以上述规定压力充满了上述非活性气体的上述处理容器内供给上述第1原料气体的步骤；

停止供给上述第1原料气体并且对上述处理容器内进行真空排气的步骤；

向上述处理容器内供给上述第2原料气体的步骤；

停止供给上述第2原料气体并且对上述处理容器内进行真空排气的步骤。

2.根据权利要求1所述的成膜方法，其中，

上述非活性气体是氮气和稀有气体中的任意一种。

3.根据权利要求1所述的成膜方法，其中，

上述非活性气体从用于向上述处理容器内供给上述第1原料气体的配管向上述处理容器内供给。

4.根据权利要求1所述的成膜方法，其中，

该成膜方法还包括在缓冲容器内积存上述第1原料气体的步骤，该缓冲容器设于将上述第1原料气体的供给源和上述处理容器连结起来的配管上，

在供给上述第1原料气体的步骤中，从上述缓冲容器供给上述第1原料气体。

5.一种成膜装置，其包括：

处理容器，其能收容基板；

第1原料气体供给部，其用于向上述处理容器内供给第1原料气体；

第2原料气体供给部，其用于向上述处理容器内供给第2原料气体；

非活性气体供给部，其用于向上述处理容器内供给非活性气体；

排气部，其用于对上述处理容器内进行真空排气；

控制部，其以下述方式控制上述第1原料气体供给部、上述第2原料气体供给部、上述非活性气体供给部及上述排气部；

上述方式是指：不向上述处理容器内供给气体而对上述处理容器内进行真空排气，向上述处理容器内供给非活性气体直到上述处理容器内成为规定压力，在上述处理容器内的真空排气停止的状态下向以上述规定压力充满了上述非活性气体的上述处理容器内供给上述第1原料气体，停止供给上述第1原料气体并且对上述处理容器内进行真空排气，向上述处理容器内供给上述第2原料气体，停止供给上述第2原料气体并且对上述处理容器内进行真空排气。

6.根据权利要求5所述的成膜装置，其中，

上述非活性气体是氮气和稀有气体中的任意一种。

7.根据权利要求5所述的成膜装置，其中，

上述第1原料气体供给部包含配置在上述处理容器内的气体供给管，

该气体供给管用于向上述处理容器内供给上述非活性气体。

8.根据权利要求5所述的成膜装置，其中，

该成膜装置还包括用于积存上述第1原料气体的缓冲容器，该缓冲容器设于将上述第1原料气体的供给源和上述处理容器连结起来的配管上，

在供给上述第1原料气体时，从上述缓冲容器供给上述第1原料气体。