[发明专利]薄膜沉积系统及薄膜沉积方法

摘要

本发明公开一种薄膜沉积系统及薄膜沉积方法，薄膜沉积系统，可用以在一个或多个基板上形成一层或多层的材料层，该薄膜沉积系统包括有一真空室及位于真空室的喷气单元。真空室的腔壁上设置有一腔门，并可在真空状态下对真空室的一个或多个基板进行装载及卸载。连接喷气单元的驱动装置可驱动喷气单元在真空状态下于第一位置及第二位置之间位移。当喷气单元位于第一位置时，可经由腔门进行一个或多个基板的装载及卸载，而当喷气单元位于第二位置时，喷气单元将会限制真空室的腔门的进出。

主权项

一种薄膜沉积系统，用以在一个或多个基板上形成一层或多层材料层，该薄膜沉积系统包括有：一真空室；一喷气单元，位于该真空室内；一腔门，位于该真空室的腔壁上，其中该腔门容许在真空状态下，一个或多个基板在该真空室内进行装载及卸载；及一驱动装置，连接于该喷气单元，其中该驱动装置设置成在真空状态下使该喷气单元在一第一位置及一第二位置之间移动；其中当该喷气单元位于该第一位置时，该一个或多个基板经由该腔门进行装载及卸载，而当该喷气单元位于该第二位置时，该喷气单元限制该真空室内的腔门的进出。