[发明专利]以铜为主成分的金属薄膜的蚀刻液组合物无效
| 申请号： | 201210013092.8 | 申请日： | 2012-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN102618872A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 大城研二;河野良;高桥秀树 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18 |
| 代理公司： | 北京高文律师事务所 11359 | 代理人： | 徐江华 |
| 地址： | 日本国东*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可以对含铜和铜合金薄膜的金属层积膜图案进行精度良好的加工、可以形成优异的图案形状、并且实用性优异的稳定的液体寿命长的蚀刻液组合物，以及提供使用该蚀刻液组合物的蚀刻方法。本发明涉及使用具有特定组成的、配合磷酸、硝酸、醋酸和水而成的蚀刻液组合物对具有由铜形成的层和由含铜的铜合金形成的层的金属层积膜进行蚀刻的方法、以及其蚀刻液组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 为主 成分 金属 薄膜 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
一种蚀刻方法，其特征在于，使用配合40～50重量％的磷酸、1.5～3.5重量％的硝酸、25～40重量％的醋酸和水而成的蚀刻液组合物，对具有由铜形成的层和由含铜的铜合金形成的层的金属层积膜进行蚀刻，其中，铜合金不包括由铜以及钼和/或钛形成的合金。
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