[发明专利]防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件无效
| 申请号： | 201210010752.7 | 申请日： | 2012-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN103207518A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 魏志凌;高小平;郑庆靓;吴小燕 | 申请（专利权）人： | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64;G03F1/62 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种防止下垂的掩模框架及相应的掩模组件，防止下垂的掩模框架包括边框和支撑条，所述边框和支撑条一体成型；所述相应的掩模组件包括上述防止下垂的掩模框架和掩模板，所述掩模框架与所述掩模板焊接。本发明提供的掩模框架及防止下垂的掩模组件，有效防止了在蒸镀过程中由掩模组件上的掩模板的重量引起的掩模板的图案变形，有效改善蒸镀精度，生产成本低，效率高，具有广阔的市场前景。 | ||
| 搜索关键词： | 防止 下垂 框架 模组 | ||
【主权项】：
一种防止下垂的掩模框架，其特征在于，包括边框和支撑条，所述边框和支撑条一体成型。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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