[发明专利]防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件无效
| 申请号： | 201210010752.7 | 申请日： | 2012-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN103207518A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 魏志凌;高小平;郑庆靓;吴小燕 | 申请（专利权）人： | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64;G03F1/62 |
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| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 防止 下垂 框架 模组 | ||
1.一种防止下垂的掩模框架，其特征在于，包括边框和支撑条，所述边框和支撑条一体成型。
2.根据权利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述支撑条之间纵向或横向相互平行。
3.根据权利要求2所述的掩模框架，其特征在于，所述支撑条之间有间隙。
4.根据权利要求3所述的掩模框架，其特征在于，所述支撑条之间的间隙大于或等于掩模板图形区域的开口；所述支撑条的宽度小于或等于掩模板图形区域开口之间的间隙。
5.根据权利要求2所述的掩模框架，其特征在于，还设有横向或纵向相互平行的支撑条与所述纵向或横向相互平行的支撑条垂直交叉，形成许多网格。
6.根据权利要求5所述的掩模框架，其特征在于，所述网格的尺寸大于或等于掩模板图形区域开口的尺寸，所述支撑条的宽度小于或等于掩模板图形区域开口之间的间隙。
7.根据权利要求1-6任一项所述的掩模框架，其特征在于，所述支撑条与所述边框处于同一水平面上。
8.根据权利要求1-6任一项所述的掩模框架，其特征在于，所述边框上具有满足蒸镀设备要求的结构设计。
9.一种防止下垂的掩模组件，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的防止下垂的掩模框架和掩模板，所述防止下垂的掩模框架与所述掩模板焊接。
10.根据权利要求9所述的防止下垂的掩模组件，其特征在于，所述掩模框架的纵横向支撑条与所述掩模板纵横向图形区域间隙对齐，支撑条中心线上与掩模板图形区域间隙之间有焊接点，掩模框架边框边缘区域与掩模板边缘之间也有焊接点，所述掩模框架边框边缘区域是指掩模框架边框中心线到掩模框架边框外边线之间的区域。
11.根据权利要求9或10所述的防止下垂的掩模组件，其特征在于，所述支撑条与所述掩模板的制作材料相同。
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
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