[发明专利]三维立体蒸镀掩模板的复合制备工艺

摘要

本发明涉及一种三维立体蒸镀掩模板的复合制备工艺，其特征在于，所述制备工艺步骤包括A. 三维立体芯模的制备工艺;B. 三维立体蒸镀掩模板的制备工艺。本发明提供的三维立体蒸镀掩模板的复合制备工艺,其生产出来的三维立体蒸镀掩模板具有凹陷区域和凸起区域，镀层表面质量好，无麻点、针孔，凸起区域不易脱落成本低，工艺简单，节省能源开口精度高，开口质量好，孔壁光滑，具有广阔的市场前景。

主权项

一种三维立体蒸镀掩模板的复合制备工艺，其特征在于，所述制备工艺步骤包括：A. 三维立体芯模的制备工艺;B. 三维立体蒸镀掩模板的制备工艺；所述步骤A中的三维立体芯模的制备工艺包括：芯模处理；前处理；双面贴膜；单面曝光a；单面显影a；单面蚀刻；芯模后续处理；所述芯模处理包括，选取1.8mm厚的不锈钢板作为芯模材料，将芯模切割成为800mm×600mm的尺寸大小；所述前处理包括，将芯模除油、酸洗、喷砂，以去除表面的油渍杂质，并将表面打磨光滑；所述双面贴膜包括，将芯模的双面进行贴膜，并撕去一面的干膜保护膜，保留另一面的干膜保护膜，防止被蚀刻液腐蚀；所述单面曝光a包括，将芯模的双面撕去保护膜的一面进行曝光，即将形成电铸掩模板的一面的三维立体区域凸起区域以外的区域曝光，将凸起区域的干膜显影去除； 将芯模另外的一面曝黑；所述单面显影a包括，将所述单面曝光a步骤中的未曝光部分显影，即单面显影区域为掩模板凸起区域；留下曝光后的干膜以作后续蚀刻步骤的保护膜，以备将芯模蚀刻成厚度均一的具有三维立体区域的芯膜；所述单面蚀刻包括，蚀刻区域即为所述单面显影a步骤中的未曝光区域，在芯模上蚀刻出一个凹陷区域，形成三维立体芯模，为后续电铸三维立体蒸镀掩模板做准备；刻蚀后即可形成厚度均一的具有三维立体芯模；所述芯模后续处理包括，将三维立体芯模进行除油、酸洗；所述步骤B中的三维立体蒸镀掩模板的制备工艺如下：三维立体芯模处理；单面贴膜；单面曝光b；单面显影b；电铸；剥离；所述步骤B中的芯模处理包括，将三维立体芯模具有凹陷区域的一面进行喷砂；所述单面贴膜包括，将三维立体芯模具有凹陷区域的一面进行贴膜；所述单面曝光b包括，将三维立体芯模上图形开口区域曝光；所述单面显影b包括，将所述单面曝光步骤中未曝光部分显影，留下曝光的部分以作后续电铸步骤的保护膜；所述电铸包括，在制作好的三维立体芯模上电沉积上金属材料，形成三维立体蒸镀掩模板；所述剥离包括，将三维立体蒸镀掩模板从芯模上剥离。