[发明专利]烧结体溅射靶有效
| 申请号： | 201180062203.8 | 申请日： | 2011-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN103270190A | 公开（公告）日： | 2013-08-28 |
| 发明（设计）人： | 佐藤敦;中村祐一郎 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C1/05;C22C19/07;C22C32/00;G11B5/851 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种烧结体溅射靶，含有Cr、Co作为金属成分，并且包含分散在该金属成分的基质中的氧化物，其特征在于，该溅射靶的组织在金属基质中具有在Co中分散有Co氧化物的区域（A）和在该区域（A）的周缘的含有Cr氧化物的区域（D）。本发明还涉及所述烧结体溅射靶的制造方法，将Co粉末、Cr粉末与将在Co中分散有Co氧化物的烧结体粉碎而得到的粉末混合而得到的混合粉末加压烧结，由此得到该组织。本发明的课题在于提供残留必要量的Co氧化物、溅射时的粉粒产生少、具有充分的烧结密度的溅射靶。 | ||
| 搜索关键词： | 烧结 溅射 | ||
【主权项】：
一种烧结体溅射靶，含有Co、Cr作为金属成分，并且包含分散在该金属成分的基质中的氧化物，其特征在于，该溅射靶的组织在金属基质中具有在Co中分散有Co氧化物的区域（A）和在该区域（A）的周缘的含有Cr氧化物的区域（D）。
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