[发明专利]可自成像成膜聚合物、其组合物以及由其制得的器件和结构有效
| 申请号： | 201180056522.8 | 申请日： | 2011-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN103370347A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 大治;阳雄池田;L·F·罗德斯;P·坎达纳拉彻驰 | 申请（专利权）人： | 普罗米鲁斯有限责任公司;住友电木株式会社 |
| 主分类号： | C08F222/06 | 分类号： | C08F222/06;C08F220/52;C08F210/14;G03F7/038 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 杨立芳 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 聚合物和包含此种聚合物的形成可自成像膜的组合物，此种聚合物包含具有至少一个酚类官能团的降冰片烯型重复单元和马来酸酐型重复单元，其可以配制为正色调成像或负色调成像。据此形成的膜可用作微电子器件，例如半导体，和光电子器件制造中的可自成像层。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 聚合物 组合 以及 器件 结构 | ||
【主权项】：
1.成膜的聚合物组合物，包含：聚合物，所述聚合物包含衍生自由式II表示的单体的马来酸酐型重复单元：![]()
其中Z是O或NR5，其中R5是氢或R*-OH，其中R*是烷基、芳基或烷芳基连接基，和所述聚合物包含衍生自选自以下结构通式的单体的第一降冰片烯型重复单元：![]()
其中n是1-5的整数；W是H或烷基、醚或酮；浇铸溶剂；和与一种或多种交联性添加剂结合的光活性化合物或光酸产生剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于普罗米鲁斯有限责任公司;住友电木株式会社，未经普罗米鲁斯有限责任公司;住友电木株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201180056522.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种无垫层透水生态植草地坪成型模具
- 下一篇：带继电器的插座
