[发明专利]成膜用组合物有效
| 申请号： | 201180048927.7 | 申请日： | 2011-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN103154138A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 加藤拓;村上奈子美;小山欣也;西村直也;小泽雅昭 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08L79/04 | 分类号： | C08L79/04;C08G73/06;C08K3/00;G02F1/1335;H01L21/312 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 吴宗颐 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明提供一种包括含三嗪环的超支化聚合物和无机微粒的成膜用组合物，所述超支化聚合物具有下式（1）表示的重复单元结构。由此可以提供下述成膜用组合物：其能够在不降低无机微粒在分散液中的分散性的情况下杂交，能够得到具有高折射率的膜，且适用于制作电子器件用膜， |
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| 搜索关键词： | 成膜用 组合 | ||
【主权项】：
1.成膜用组合物，其特征在于，包括含三嗪环的超支化聚合物和无机微粒，所述超支化聚合物包括下述式（1）的重复单元结构，[化1]![]()
式中，R和R'各自独立地是氢原子、烷基、烷氧基、芳基或芳烷基；且Ar是包括芳族环和杂环的任一者或两者的二价有机基团。
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