[发明专利]等离子体增强化学气相沉积系统中的压差控制无效
申请号: | 201180042600.9 | 申请日: | 2011-09-02 |
公开(公告)号: | CN103119199A | 公开(公告)日: | 2013-05-22 |
发明(设计)人: | 格里戈里·比尼翁 | 申请(专利权)人: | TEL太阳能公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 康建峰;贾萌 |
地址: | 瑞士特*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | 描述了一种用于制造薄膜的方法和装置,其中,在沉积系统中包括用于容纳至少一个衬底的内部非气密壳、完全围绕所述壳的外部气密室、工作上连接到内部非气密壳与外部气密室二者的排气口,所述内部室被保持压力低于所述外部壳的内部的压力,特别地压差小于1mbar。该装置可以呈现布置在内部壳与排气口以及外部室与排气口之间的用于控制所述压差的两个蝶形阀。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 增强 化学 沉积 系统 中的 控制 | ||
【主权项】:
一种用于在沉积系统中制造薄膜的方法,所述系统包括用于容纳至少一个衬底的内部非气密壳、完全围绕所述壳的外部气密室、工作上连接到内部非气密壳与外部气密室二者的排气口,所述排气口保持所述室的压力低于所述壳内的压力,其特征在于:在操作期间,在内部非气密壳和外部气密室之间建立小于1mbar的压差。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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